Puolijohdekomponenttien valmistusprosessin simulointi

Kaj Grahn, Kari Halonen

Research output: Book/ReportReport

Abstract

Simulointiohjelmaa SUPREM2 voidaan käyttää apuvälineenä suunniteltaessa uutta puoliiohdekomponenttien valmistusprosessia tai kehiteltäessä jo olemassa olevaa prosessia. Ohjelma laskee prosessiaskeleiden, epitaktinen kasvatus, ioni-istutus, oksidointi ja diffuusio, aikana tapahtuvan konsentraatioprofiilin muutoksen. Lisäksi se laskee pn-liitosten syvyydet sekä puolijohdekomponenttien sähköiset suureet, neliövastuksen ja kynnysjännitteen. Aluksi käydään läpi eri prosessivaiheita kuvaavia matemaattisia malleja ja tarkastellaan lyhyesti simulointiohjelman rakennetta. Uusi yhteispohjoismainen CMOS-prosessi, nimeltään NordiCMOS, on simuloitu SUPREM2:lla. Simuloidut tulokset vastaavat hyvin muualla mitattuja vastaavan prosessin arvoja. Tavoitteena on saada toimiva prosessi suunnittelusääntöineen.
Original languageFinnish
Place of PublicationEspoo
PublisherVTT Technical Research Centre of Finland
Number of pages68
ISBN (Print)951-38-1848-9
Publication statusPublished - 1985
MoE publication typeD4 Published development or research report or study

Publication series

SeriesValtion teknillinen tutkimuskeskus. Tiedotteita
Number412
ISSN0358-5085

Keywords

  • integrated circuits
  • semiconductor devices
  • manufacturing
  • computer simulation
  • mathematical models

Cite this

Grahn, K., & Halonen, K. (1985). Puolijohdekomponenttien valmistusprosessin simulointi. VTT Technical Research Centre of Finland. Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Tiedotteita, No. 412