@book{445cd2ae01cf407581e5f99033cc64a6,
title = "Puolijohdekomponenttien valmistusprosessin simulointi",
abstract = "Simulointiohjelmaa SUPREM2 voidaan k{\"a}ytt{\"a}{\"a} apuv{\"a}lineen{\"a} suunniteltaessa uutta puoliiohdekomponenttien valmistusprosessia tai kehitelt{\"a}ess{\"a} jo olemassa olevaa prosessia. Ohjelma laskee prosessiaskeleiden, epitaktinen kasvatus, ioni-istutus, oksidointi ja diffuusio, aikana tapahtuvan konsentraatioprofiilin muutoksen. Lis{\"a}ksi se laskee pn-liitosten syvyydet sek{\"a} puolijohdekomponenttien s{\"a}hk{\"o}iset suureet, neli{\"o}vastuksen ja kynnysj{\"a}nnitteen. Aluksi k{\"a}yd{\"a}{\"a}n l{\"a}pi eri prosessivaiheita kuvaavia matemaattisia malleja ja tarkastellaan lyhyesti simulointiohjelman rakennetta. Uusi yhteispohjoismainen CMOS-prosessi, nimelt{\"a}{\"a}n NordiCMOS, on simuloitu SUPREM2:lla. Simuloidut tulokset vastaavat hyvin muualla mitattuja vastaavan prosessin arvoja. Tavoitteena on saada toimiva prosessi suunnittelus{\"a}{\"a}nt{\"o}ineen.",
keywords = "integrated circuits, semiconductor devices, manufacturing, computer simulation, mathematical models",
author = "Kaj Grahn and Kari Halonen",
year = "1985",
language = "Finnish",
isbn = "951-38-1848-9",
series = "Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Tiedotteita",
publisher = "VTT Technical Research Centre of Finland",
number = "412",
address = "Finland",
}